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分散劑廠-分散劑-瑞明威
天津市瑞明威化工有限公司
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- 地址：天津市河北區(qū)望海樓街新大路189號B座4樓426室
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- 產(chǎn)品品牌：瑞明威
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分散劑廠-分散劑-瑞明威 ：
天津次氯酸鈉,天津無水乙醇,天津異丙醇助磨劑與分散劑的區(qū)別
在超細粉碎過程中，當(dāng)顆粒的粒度減小至微米級后，顆粒的質(zhì)量趨于均勻，缺陷減少，強度和硬度增大，粉碎難度大大增加。同時，因比表面積及表面能顯著增大，微細顆粒相互團聚（形成二次或三次顆粒）的趨勢明顯增強。對于濕法超細粉碎，這時礦漿的黏度顯著提高，礦漿的流動性明顯變差。如果不采取一定的工藝措施，這時粉碎效率將顯著下降，單位產(chǎn)品能耗將明顯提高，這時候就需要在超細粉碎過程中添加一些分散劑或助磨劑。助磨劑與分散劑的區(qū)別以下幾個方面可以分析：
助磨劑與分散劑的概念
助磨劑是一類能顯著提高超細粉碎作業(yè)效率或降低單位產(chǎn)品能耗的化學(xué)物質(zhì)，包括不同狀態(tài)（固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)）的有機物和無機物。
添加助磨劑的主要目的是提高物料的可磨性，阻止微細顆粒的黏結(jié)、團聚和在磨機襯板及研磨介質(zhì)上的粘附，提高磨機內(nèi)物料的流動性，從而提高產(chǎn)品細度和細產(chǎn)品產(chǎn)量，降低粉碎極限和單位產(chǎn)品的能耗。
顯然，分散劑也是一種助磨劑，是通過阻止顆粒的團聚，降低礦漿黏度來起助磨作用的。
做氧化硅拋光液需要的分散劑
氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。那么制作氧化硅拋光液中需要用到怎么樣的分散劑來做水基下達到100納米做懸浮液。
拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑，拋光液具有良好的去油污，防銹，清洗和增光性能，并能使金屬制品顯露出真實的金屬光澤。氧化硅拋光液產(chǎn)品去除率高，表面質(zhì)量好，沒有橘皮、劃傷、塌邊、凹坑、麻點、發(fā)蒙等不良現(xiàn)象。廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光。如：硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、寶石等的拋光加工。
氧化硅拋光液需要用到的分散劑廠家建議用HH2054分散劑，用在水基100納米中，做成懸浮液。然后制備氧化硅拋光液。有效解決問題，詳情資料請找我們?yōu)槟敿氈v解，同時支持同步測試實驗環(huán)節(jié)。
碳酸鈣研磨分散劑的種類 常用的碳酸鈣研磨分散劑有三大類。無機類（如六偏磷酸鈉、二硅酸鈉等）、有機類(如苯磺酸鹽等)、高分子類(聚羧酸鹽、聚衍生物)。目前在碳酸鈣的超細研磨中普遍采用的是高分子類分散劑。 無機類分散劑。無機類分散劑的作用機理是通過增加碳酸鈣顆粒表面的電荷，增強表面的靜電斥力，使粒子在熱運動、布朗運動過程中難以進一步靠攏而絮聚。部分無機類分散劑還能夠增強顆粒表面的潤濕程度。主要有聚磷酸鹽（如六偏磷酸鈉）、硅酸鹽、碳酸鹽等，其中以六偏硫酸鈉為常用。但需要注意的是無機分散劑會對導(dǎo)電率、介電常數(shù)帶來不良影響，也因此使得無機類分散劑的應(yīng)用尤其是在超細研磨中受到極大的限制。 有機類小分子分散劑。有機類小分子分散劑主要為各種表面活性劑，可分為3類：陰離子型、非離子型和陽離子型。離子型的分散劑主要通過表面電荷的靜電斥力作用，非離子型分散劑主要通過空間位阻作用來改善懸浮液的穩(wěn)定性能，另外此類分散劑在改善碳酸鈣顆粒表面潤濕性能方面也有很大的作用。常用的有機小分子分散劑主要有聚醚或烷芳基的硫酸鹽、氯化物、酚聚乙烯醚等。
